주식 · 글로벌
삼성전자, ASML과 12인치 포토마스크 협력 확대
삼성전자가 ASML과 협력하여 12인치 포토마스크 제조 표준 개발에 나선다. 이번 협력은 고개구수 극자외선(EUV) 장비 기술을 활용하여 초미세 공정의 한계를 극복하는 것을 목표로 한다. 삼성전자는 2028년까지 D램 양산에 이를 적용할 계획이다.
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- 경제지이데일리
12인치 포토마스크 확대와 관련된 기술적 목표를 강조함
주장
단일 출처가 제기한, 교차 확인 전 주장
삼성전자와 ASML이 12인치 포토마스크 제조 표준 개발에 나선다 — 이데일리
이번 협력은 고개구수 극자외선(EUV) 장비 기술을 활용하여 초미세 공정의 한계를 극복하는 것을 목표로 한다 — 이데일리
삼성전자는 2028년까지 D램 양산에 이를 적용할 계획 — 이데일리
빠진 관점
아직 확인되지 않았거나 보도에서 빠진 관점
SK하이닉스의 협력 검토에 대한 구체적 내용 미제공
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